- ·STE6600H1R.C 高速主軸編...
- ·RCC58.2S8-K1M4E-36...
- ·HLE452048H6LY.AC 高...
- ·S5208G-1200BS-P526...
- ·DCC38H6-J1M2C-256B...
- ·HNE301024L1OC.C 高速...
- ·K9035J-1024BM-P526...
- ·HLE422048L2R.C 小型單...
- ·HLE42600H1F.C 高速主軸...
- ·HLE381024L1R.B 小型單...
- ·STE61024H3F.B 高速主軸...
- ·S3806G-2048BS-T526...
- ·HLE30600H3R.A 小型單圈...
- ·HNE35600D3LY.B 高速主...
- ·HLE3890H2OC.C 增量型編...
MIYUKI美幸輝 真空閥 AER-C40
MIYUKI美幸輝 真空閥 AER-C40
MIYUKI美幸輝 真空閥 AER-C40
L 型閥
AB/AE/ABR/AER 系列
軸封方式(波紋管密封、O 形圈密封)可根據使用目的選擇。
16A~50A 可用于單作用和雙作用。
所有尺寸均與反壓兼容。
真空閥(Vacuum Valve)是專門用于真空系統中控制氣體流動、調節(jié)壓力或隔離真空環(huán)境的閥門。由于真空系統對密封性、材料放氣率和耐壓差有嚴格要求,真空閥的設計與普通閥門有顯著區(qū)別。
真空閥根據工作原理可分為:
截止型真空閥(如真空擋板閥、真空蝶閥)——用于切斷或接通氣流。
調節(jié)型真空閥(如真空微調閥、針閥)——用于控制氣體流量和壓力。
放氣閥(如真空破空閥)——用于向真空腔體引入大氣,平衡壓力。
真空閥廣泛應用于半導體制造、真空鍍膜、航天模擬、粒子加速器、醫(yī)療設備等領域,是真空系統不可或缺的關鍵組件。
真空閥的應用領域
半導體與微電子制造
用于晶圓加工、刻蝕、CVD(化學氣相沉積)和PVD(物理氣相沉積)設備,控制工藝腔體的真空度。
真空鍍膜與光學涂層
在磁控濺射、電子束蒸發(fā)等鍍膜設備中,真空閥用于隔離不同腔室,確保鍍膜均勻性。
科研與實驗室設備
粒子加速器、同步輻射裝置、質譜儀等高真空系統依賴高精度真空閥維持穩(wěn)定運行。
航天與空間模擬
用于衛(wèi)星、航天器地面測試,模擬太空真空環(huán)境,確保設備在極端條件下的可靠性。
歷史與定位
MIYUKI美幸輝成立于20世紀中期,*初以合成樹脂和粘合劑起家,憑借*的技術實力和穩(wěn)定的產品品質,逐步發(fā)展成為日本化工行業(yè)的重要企業(yè)。名稱“美幸輝”寓意“美好、幸運與光輝”,象征著企業(yè)致力于通過科技創(chuàng)新為工業(yè)發(fā)展帶來更光明的未來。